हाई लाइट: | सेल्युलाईट हटाने मशीनों,वसा की कमी के लिए गुहिकायन |
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समारोह:
1.35K + द्विध्रुवी आरएफ
2.Vacuum + द्विध्रुवी आरएफ
3.Tripolar आरएफ (शरीर)
4.Tripolar आरएफ (चेहरा)
5.Cryotherapy
मुख्य तकनीकी पैरामीटर:
अल्ट्रासोनिक आवृत्ति: 35KHz
आरएफ Freqency: 0.5-10KHz
निर्वात तीव्रता: 50L / मिनट
शीतलक तीव्रता: 1-10 ℃
वोल्टेज: 110V ~ 120V / 60 हर्ट्ज 220V ~ 240V / 60 हर्ट्ज
पावर: 300W
जी डब्ल्यू: 32kg
Meas: 60cm × 60cm × 75cm
सेल्युलाईट कमी 110V ~ 120V / 60 हर्ट्ज 220V ~ 240V / 60 हर्ट्ज F-33 के लिए द्विध्रुवी रेडियो आवृत्ति 35KHz Cavitation और वैक्यूम Slimming मशीन
आरएफ और 35KHz Cavitation और वैक्यूम Slimming सौंदर्य उपकरण
काम सिद्धांत:
Cavitation और आरएफ dipolar हाथ टुकड़ा, फ्रंटियर तुल्यकालिक चक्रीय लहर प्रौद्योगिकी को गोद ले,
एकान्तरी सकारात्मक और नकारात्मक दबाव के उत्पादन, कोशिका झिल्ली पर अभिनय,
40KHz उच्च कंपन ऊर्जा देकर, "cavitation" के आधार पर वसा कोशिका तरलीकृत
सिद्धांत, वसा ऊतक, जो बनाता है आरएफ ऊर्जा गहरा जाने के विरोध को नीचे कम है।
प्रत्येक सेकंड में लाखों समय सप्ताह प्रत्यावर्तन दोलन, ionizes मोटी परत, depletes
वसा कोशिका, अंत में पानी और सीओ 2 में वसा कोशिका है, जो बाहर अलग हो जाएगा हस्तांतरण
शरीर और एक ही समय लसीका परिसंचरण में बढ़ाया है। शरीर को आकार देने और detoxifyi
-ng परिणाम की उम्मीद की जा सकती है, एक बेहतर स्लिमिंग परिणाम हासिल की है।
Tripolar आरएफ हाथ टुकड़ा, उन्नत उत्पादन मोड जो ऊतकों का इलाज कर सकता गोद ले
अधिक सही, रक्त परिसंचरण को बढ़ाने, अधिक कोलेजन उत्पन्न करने, एक ही समय में
, ठंडा करने के साथ एपिडर्मिस की रक्षा त्वचीय परत को गर्मी लेकिन कम से एपिडर्मिस रखने
सामान्य तापमान। त्वचीय परत 45 डिग्री सेल्सियस से 60 डिग्री सेल्सियस तक गर्म हो सकता है, और अधिक उत्पन्न करने के लिए
कोलेजन, मोटाई में वृद्धि, शिकन हटाने, त्वचा कस और उठाने resu दे रही है
-lts।
निर्वात और आरएफ हाथ टुकड़ा, वैक्यूम उपचार के साथ संयुक्त 1MHz आरएफ, अधिक देता है
सटीक और स्थिति उपचार और वसा ऊतकों तक गर्मी, रक्त परिसंचरण में तेजी लाने,
कोलेजन production.At एक ही समय, हाथ टुकड़ा एपिडर्मिस की रक्षा के लिए ठंडा करने देता है।
अंत में, अधिक कोलेजन, शिकन गायब हो जाता है, का उत्पादन किया त्वचा तंग और फर्म हो जाता है।
उच्च शक्ति वैक्यूम विभिन्न गहराई में वसा ऊतकों को मालिश देता है, वसा ऊतकों को भंग करने के लिए,
सेल्युलाईट को कम करने, लसीका ग्रंथि चिकनी। वसा कोशिका फैटी एसिड और विष में भंग कर रहा है
जो लसीका प्रणाली द्वारा शरीर से बाहर अलग हो जाएगा, त्वरित स्लिमिंग res देने के लिए
-ult। यह हाथ टुकड़ा गहरी वसा भंग, वसा पिघलने, detoxifying, त्वचा के लिए डिज़ाइन किया गया है
कस और शरीर को आकार देने।
रसायन चुनिंदा वसा को नुकसान पहुंचा सकता है, जबकि त्वचा बरकरार है। इस आधार, अर्थात् वसा कोशिकाओं को और अधिक आसानी से त्वचा कोशिकाओं की तुलना में ठंडा करके क्षतिग्रस्त हो रहे हैं पर आधारित है, Cryolipolysis Appling, एक नियंत्रित फैशन में थर्मल चालन के माध्यम से ऊतक को ठंडा तापमान के स्तर का चयन, और जोखिम त्वचा को नुकसान या शीतदंश केवल करने के लिए नुकसान के परिणामस्वरूप से बचने के लिए विकसित किया गया था अंतर्निहित वसा कोशिकाओं।
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